STマイクロエレクトロニクス、AIインフラの需要をサポートする高性能シリコン・フォトニクス・プラットフォームの量産を開始 STマイクロエレクトロニクスのプレスリリース
は、長年にわたるシリコン･フォトニクスのイノベーションを活用し、シリコン導波路および窒化シリコン導波路におけるクラス最高の低損失（それぞれ0.4dB/cmおよび0.5dB/cm）や先進の変調器ならびにフォトダイオードの性能、革新的なエッジ･カップリング技術など、最先端の光学性能を実現しています。 TSVの導入を計画しています。これは、TSV（Through-Silicon-Via）技術を統合した独自の新しいプラットフォームであり、光ファイバの接続密度を高めるほか、モジュールの集積化やシステム･レベルでの熱効率の向上に貢献します。PIC100 TSVプラットフォームは、次世代のNPO（Near Packaged Optics）およびCPO（Co-Packaged Optics）に対応するよう設計されており、スケールアップに向けて光電融合をさらに進めていくハイパースケーラの長期的な移行計画に沿っています。STは、ロサンゼルス（米国）で開催されるOptical Fiber Communication Conference®（2026年3月15～19日）において、シリコン･フォトニクスに関する事業および技術に関する最新のロードマップを発表する予定です。 発表論文「An Innovative 300mm Back Side Integrated Silicon Photonics Platform for 200Gbits/lane Applications」（200Gbit/レーン･アプリケーション向けの革新的な300mm裏面集積型シリコン･フォトニクス･プラットフォーム）CEA-Letiのイベント「Optical Interconnects: Driving Innovation in AI Factory and Beyond」（光インターコネクト：ＡＩファクトリとその先におけるイノベーションを駆動）（3月18日、太平洋時間18～20時）に参加本リリースの記述のうち過去の事実以外の記述には、経営陣の現時点での見解および推測に基づく将来の見込みおよび将来予測に関する記述（1933年米国証券法第27A条または1934年米国証券取引所法21E条（いずれも修正後）に該当する）があり、とりわけ以下の要因によって当該記述と著しく異なる結果、業績または状況を引き起こす既知または未知のリスクおよび不確定要因に左右され、且つ本記述にはこれらのリスクおよび不確定要因が含まれています。マクロ経済環境に影響を及ぼすとともに、さらなる影響を及ぼす可能性があり、また、当社製品の需要に悪影響を及ぼすとともに、さらなる悪影響を及ぼす可能性のある関税、貿易障壁や制裁措置の継続･適用･拡大など、国際的な貿易政策の変化.
は、長年にわたるシリコン･フォトニクスのイノベーションを活用し、シリコン導波路および窒化シリコン導波路におけるクラス最高の低損失（それぞれ0.4dB/cmおよび0.5dB/cm）や先進の変調器ならびにフォトダイオードの性能、革新的なエッジ･カップリング技術など、最先端の光学性能を実現しています。 TSVの導入を計画しています。これは、TSV（Through-Silicon-Via）技術を統合した独自の新しいプラットフォームであり、光ファイバの接続密度を高めるほか、モジュールの集積化やシステム･レベルでの熱効率の向上に貢献します。PIC100 TSVプラットフォームは、次世代のNPO（Near Packaged Optics）およびCPO（Co-Packaged Optics）に対応するよう設計されており、スケールアップに向けて光電融合をさらに進めていくハイパースケーラの長期的な移行計画に沿っています。STは、ロサンゼルス（米国）で開催されるOptical Fiber Communication Conference®（2026年3月15～19日）において、シリコン･フォトニクスに関する事業および技術に関する最新のロードマップを発表する予定です。 発表論文「An Innovative 300mm Back Side Integrated Silicon Photonics Platform for 200Gbits/lane Applications」（200Gbit/レーン･アプリケーション向けの革新的な300mm裏面集積型シリコン･フォトニクス･プラットフォーム）CEA-Letiのイベント「Optical Interconnects: Driving Innovation in AI Factory and Beyond」（光インターコネクト：ＡＩファクトリとその先におけるイノベーションを駆動）（3月18日、太平洋時間18～20時）に参加本リリースの記述のうち過去の事実以外の記述には、経営陣の現時点での見解および推測に基づく将来の見込みおよび将来予測に関する記述（1933年米国証券法第27A条または1934年米国証券取引所法21E条（いずれも修正後）に該当する）があり、とりわけ以下の要因によって当該記述と著しく異なる結果、業績または状況を引き起こす既知または未知のリスクおよび不確定要因に左右され、且つ本記述にはこれらのリスクおよび不確定要因が含まれています。マクロ経済環境に影響を及ぼすとともに、さらなる影響を及ぼす可能性があり、また、当社製品の需要に悪影響を及ぼすとともに、さらなる悪影響を及ぼす可能性のある関税、貿易障壁や制裁措置の継続･適用･拡大など、国際的な貿易政策の変化
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